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Recubrimiento por ALD de partículas de tamaño micro y nano
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El depósito de capa atómica (ALD) está pasando de ser simplemente una herramienta de investigación para el recubrimiento de sustratos porosos y partículas a convertirse en una herramienta de producción industrial viable para una serie de productos específicos, incluidos los catalizadores heterogéneos, nanorellenos para materiales compuestos de polímeros y cargas térmicas para la electrónica. En las baterías de iones de litio, por ejemplo, el ALD se utiliza para varias aplicaciones. Beneq tiene el placer de estar a la vanguardia de este desarrollo, capaz de servir a sus clientes en este campo de alta tecnología que crece de forma especialmente llamativa.
La combinación de revestimientos de alta calidad de partículas porosas y sustratos crea oportunidades sin precedentes para modificar, por ejemplo, las propiedades de difusión de materiales. ALD ha resultado ser la tecnología que verdaderamente propicia y facilita el recubrimiento de partículas, y ya es un medio probado en las siguientes aplicaciones:
- Fijación de partículas micro y nanométricas a un sustrato
- Aplicación de barreras de difusión y corrosión de superficies metálicas
- Control de las propiedades de difusión de la superficie de partículas
- Pasivación de superficies
- Adaptación de la composición de los materiales porosos
- Dopaje material poroso “bulk”
Debido a la mecanismo de crecimiento “bottom up” (de abajo a arriba) de la película de ALD, la mayoría de los revestimientos son, naturalmente, libre de poros. Esta característica es especialmente útil en aplicaciones de barrera y pasivación. Es importante destacar que se pueden conseguir mayores mejoras en las propiedades de barrera en un régimen de espesor de la película tan bajo como de 10 nm.
